マーカス型高周波グロー放電
発光表面分析装置
(rf-GD-OES)

radio frequency Glow Discharge Optical Emission Spectroscopy

マーカス型高周波グロー放電発光表面分析装置

機器名称 マーカス型高周波グロー放電発光表面分析装置(rf-GD-OES)
radio frequency Glow Discharge Optical Emission Spectroscopy
メーカー/型式

株式会社堀場製作所/GD-Profiler2

設置場所

東大阪キャンパス 38号館S118

仕様説明 迅速かつ簡易な表面・深さ方向元素分析装置。薄膜・めっき・熱処理・表面処理・コーティングなどの研究開発・生産技術を中心に活用されています。パルススパッタリング機能によって、有機材料を低ダメージ・高分解能測定が可能になりました。
【特長】
①測定元素:H~U
②検出下限:数10ppm~(元素・試料に依存)
③深さ方向分解能:数nm~(試料形状に依存)
④測定面積:Φ1mm~10mm
⑤スパッタ速度:1~10μm/min(材料に依存)

マーカス型高周波グロー放電発光表面分析装置

多層めっき/ZDC

マーカス型高周波グロー放電発光表面分析装置

膜中水素評価
めっき・熱処理品のベーキング前後の水素、DLO中水素などの評価・解析に用いられています。

マーカス型高周波グロー放電発光表面分析装置

EBSD観察の前処理
rf-GDによる前処理を行うことで、EBSP観察がより行いやすくなる場合があります。材料解析の一つの手法として、ご検討ください。

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