教員紹介

牟田 浩司
牟田 浩司
教授/電気電子工学科長
所属 産業理工学部 電気電子工学科
産業理工学・産業技術研究科
学位 博士(工学)
専門 プラズマプロセス
ジャンル 環境/エネルギー
コメント 地球環境にやさしい電磁エネルギー利用をテーマに、高周波プラズマ・ビームの大面積高効率生成および機能性薄膜作成、太陽光発電,ワイヤレス給電・送電などを研究しています。
リサーチマップ https://researchmap.jp/read0094732

研究概要

学歴/経歴

経歴

  • 2015年4月 - 現在
    近畿大学産業理工学部 電気電子工学科 教授

研究活動情報

研究分野

  • エネルギー, プラズマ応用科学

研究キーワード

電磁界シミュレーション, 電磁波, 薄膜シリコン太陽電池, プラズマCVD, ECRプラズマ

論文

  1. Estimation of negative ions in VHF SiH4/H-2 plasma
    Tsukasa Yamane, Shinya Nakano, Sachiko Nakao, Yoshiaki Takeuchi, Ryuta Ichiki, Hiroshi Muta, Kiichiro Uchino, Yoshinobu Kawai
    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS  53  (11)  116101-1-116101-4  2014年11月  [査読有り]
  2. Effect of Gas Flow Rate on the High-Rate, Localized Jet-Deposition of Silicon in SiH4/H-2 PE-CVD
    Satoshi Nishida, Hiroshi Muta, Shizuma Kuribayashi
    JOURNAL OF CHEMICAL ENGINEERING OF JAPAN  47  (6)  478-482  2014年6月  [査読有り]
  3. Effect of VHF Excitation Frequency on Localized Deposition of Silicon in Non Equilibrium-plasma-enhanced CVD by an Under Expanded Supersonic Jet
    S. Kuribayashi, Y. Tsunekawa, S. Akahori, D. Ando, J. Nakamura, S. Nishida, H. Muta, Y. Takeuchi, Y. Yamauchi, H. Takatsuka
    Surface & Coatings Technology  225  75-78  2013年  [査読有り]

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書籍等出版物

  1. プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例 , 牟田 浩司 , 分担執筆 , 第9章 超音速噴流を用いた高速・大面積均一な微結晶シリコン製膜プロセス , サイエンス&テクノロジー , 2018年9月

MISC

  1. Numerical Investigation of a Low-electron-temperature ECR Plasma in Ar/N2 Mixtures , Surface and Coatings Technology , Vol.171, pp.157-161 , 2003年
  2. Development of a Hybrid PIG-ECR Ion Sources , Surface and Coatings Technology , Vol. 274-175, pp.142-146 , 2003年
  3. Generation of a Low-electron-temperature ECR Plasma Using Mirror Magnetic Fielde , Surface and Coatings Technology , Vol. 174-175, pp. 152-156 , 2003年

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受賞

  1. 1986年, 電気関係学会九州支部連合大会発表賞,

競争的資金

  1. 科学研究費補助金, 超音速噴流を用いたVHFプラズマによる高速大面積微結晶シリコン製膜法の開発
  2. 科学研究費補助金, 狭ギャップ高圧VHFプラズマを用いた微結晶シリコン薄膜作製
  3. 科学研究費補助金, 中性粒子風と渦の極性反転

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