教員紹介

牟田 浩司
牟田 浩司
教授/電気電子工学科長
所属 産業理工学部 電気電子工学科
産業理工学・産業技術研究科
学位 博士(工学)
専門 プラズマプロセス
ジャンル 環境/エネルギー
コメント 地球環境にやさしい電磁エネルギー利用をテーマに、高周波プラズマ・ビームの大面積高効率生成および機能性薄膜作成、太陽光発電,ワイヤレス給電・送電などを研究しています。
リサーチマップ https://researchmap.jp/read0094732

研究概要

学歴/経歴

経歴

  • 2015年4月 - 現在
    近畿大学産業理工学部 電気電子工学科 教授

研究活動情報

研究分野

  • エネルギー, プラズマ応用科学

研究キーワード

電磁界シミュレーション, 電磁波, 薄膜シリコン太陽電池, プラズマCVD, ECRプラズマ

論文

  1. Effect of VHF Excitation Frequency on Localized Deposition of Silicon in Non Equilibrium-plasma-enhanced CVD by an Under Expanded Supersonic Jet
    S. Kuribayashi, Y. Tsunekawa, S. Akahori, D. Ando, J. Nakamura, S. Nishida, H. Muta, Y. Takeuchi, Y. Yamauchi, H. Takatsuka
    Surface & Coatings Technology  225  75-78  2013年  [査読有り]
  2. Measurements of SiH4/H2 VHF Plasma Parameters with Heated Langmuir Probe
    T. Yamane, S. Nakao, Y. Takeuchi, H. Muta, R. Ichiki, K. Uchino, Y. Kawai
    Contributions to Plasma Physics  53  (8)  588-591  2013年9月  [査読有り]
  3. VHF SiH4/H2 Plasma Characteristics With Negative Ions
    T. Yamane, S. Nakao, Y. Takeuchi, Y. Yamauchi, H. Takatsuka, H. Muta, K. Uchino, Y. Kawai
    Surface & Coatings Technology  228  S433-S436  2013年8月  [査読有り]

書籍等出版物

  1. プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例 , 牟田 浩司 , 分担執筆 , 第9章 超音速噴流を用いた高速・大面積均一な微結晶シリコン製膜プロセス , サイエンス&テクノロジー , 2018年9月

MISC

  1. Numerical Investigation of the Production Mechanism of a Low-temperature Electron Cyclotron Resonance Plasma. , Vacuum , Vol.66,pp.209-214 , 2002年
  2. Investigation of the Microwave Propagation in an ECR Plasma Using a Self-consistent Particle-wave Model , Surface and Coatings Technology , Vol.131,pp.44-49 , 2000年
  3. Role of Peripheral Vacuum Regions in the Control of the Electron Cyclotron Resonance Plasma Uniformity , Applied Physics Letters , Vol.74,pp.14-17 , 1999年

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受賞

  1. 1986年, 電気関係学会九州支部連合大会発表賞,

競争的資金

  1. 科学研究費補助金, 超音速噴流を用いたVHFプラズマによる高速大面積微結晶シリコン製膜法の開発
  2. 科学研究費補助金, 狭ギャップ高圧VHFプラズマを用いた微結晶シリコン薄膜作製
  3. 科学研究費補助金, 中性粒子風と渦の極性反転

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