教員紹介

牟田 浩司
牟田 浩司
教授
所属 産業理工学部 電気電子工学科
産業理工学研究科
学位 博士(工学)
専門 プラズマプロセス
ジャンル 環境/エネルギー
コメント 地球環境にやさしい電磁エネルギー利用をテーマに、高周波プラズマ・ビームの大面積高効率生成および機能性薄膜作成、太陽光発電,ワイヤレス給電・送電などを研究しています。
リサーチマップ https://researchmap.jp/read0094732

研究概要

学歴/経歴

経歴

  • 2015年4月 - 現在
    近畿大学産業理工学部 電気電子工学科 教授

研究活動情報

研究分野

  • エネルギー, プラズマ応用科学

研究キーワード

超高速DLC成膜, 電磁界シミュレーション, VHFプラズマ, 薄膜シリコン太陽電池, プラズマCVD, ECRプラズマ

論文

  1. 非平衡プラズマジェットCVD法によるシリコン製膜時に装置内圧力が製膜速度,膜質におよぼす影響
    西田 哲; 納土 亮; 牟田 浩司; 栗林 志頭眞
    化学工業論文集  41  (2)  148-152  2015年  [査読有り]
  2. 高速噴流を利用したプラズマCVDの新規高速製膜手法
    西田哲; 牟田浩司; 栗林志頭眞
    ながれ(日本流体力学会誌)  34  (1)  15-20  2015年 
  3. Estimation of negative ions in VHF SiH4/H-2 plasma
    Tsukasa Yamane; Shinya Nakano; Sachiko Nakao; Yoshiaki Takeuchi; Ryuta Ichiki; Hiroshi Muta; Kiichiro Uchino; Yoshinobu Kawai
    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS  53  (11)  116101-1-116101-4  2014年11月  [査読有り]

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書籍等出版物

  1. プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例 , 牟田 浩司 , 第9章 超音速噴流を用いた高速・大面積均一な微結晶シリコン製膜プロセス , 第9章 超音速噴流を用いた高速・大面積均一な微結晶シリコン製膜プロセス , サイエンス&テクノロジー , 2018年9月

MISC

  1. B132 非平衡プラズマジェットCVDに於けるSi結晶化度制御法の実験的研究(一般講演(3)) , 納土 亮; 松永 卓真; 井関 将仁; 牟田 浩司; 西田 哲; 栗林 志頭眞 , 熱工学コンファレンス講演論文集 , 2013 , 57 , 58 , 2013年10月18日
    概要:Solar energy is capturing the spotlight as clean energy replaced with atomic energy. Then, we paid attention to the thin film silicon solar cell with low manufacture cost. It is usually manufactured by PECVD under low back pressure. We found that high-speed film deposition was enabled by increasing back pressure. However, high back pressure is put into the domain of a viscous flow, and produces involvement of clusters. The film quality will be worsened if a cluster adheres to a substrate. In order to attain a high quality and high deposition rate, it is necessary to investigate the dependence between the back pressure and deposition quality, and the relation between the back pressure and deposition rate. This paper reports the experimental results.
  2. G212 非平衡プラズマCVDに於けるガス流速がSi成膜速度に及ぼす影響の解析(OS-17: プラズマ革新技術の展開(1)) , 松岡 一樹; 岡本 直樹; 安藤 大輔; 中村 次郎; 西田 哲; 牟田 浩司; 栗林 志頭眞 , 熱工学コンファレンス講演論文集 , 2012 , 435 , 436 , 2012年11月16日
  3. 超音速不足噴流を用いた非平衡プラズマCVDによるα/μc-Si:H膜成長 , 安藤 大輔; 中村 次郎; 恒川 佳寛; 西田 哲; 牟田 浩司; 栗林 志頭眞; 竹内 良昭; 山内 康弘; 高塚 汎 , 電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会 , 2010 , 48 , 5 , 10 , 2010年8月11日

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受賞

  1. 1986年, 電気関係学会九州支部連合大会発表賞

共同研究・競争的資金等の研究課題

  1. 科学研究費補助金, 超音速噴流を用いたVHFプラズマによる高速大面積微結晶シリコン製膜法の開発
  2. 科学研究費補助金, 狭ギャップ高圧VHFプラズマを用いた微結晶シリコン薄膜作製
  3. 科学研究費補助金, 中性粒子風と渦の極性反転

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