教員紹介

牟田 浩司
牟田 浩司
教授/電気電子工学科長
所属 産業理工学部 電気電子工学科
産業理工学研究科
学位 博士(工学)
専門 プラズマプロセス
ジャンル 環境/エネルギー
コメント 地球環境にやさしい電磁エネルギー利用をテーマに、高周波プラズマ・ビームの大面積高効率生成および機能性薄膜作成、太陽光発電,ワイヤレス給電・送電などを研究しています。
リサーチマップ https://researchmap.jp/read0094732

研究概要

学歴/経歴

経歴

  • 2015年4月 - 現在
    近畿大学産業理工学部 電気電子工学科 教授

研究活動情報

研究分野

  • エネルギー, プラズマ応用科学

研究キーワード

超高速DLC成膜, VHFプラズマ, 電磁界シミュレーション, 薄膜シリコン太陽電池, ECRプラズマ, プラズマCVD

論文

  1. 高速噴流を利用したプラズマCVDの新規高速製膜手法
    西田哲; 牟田浩司; 栗林志頭眞
    ながれ(日本流体力学会誌)  34  15-20  2015年 
  2. Estimation of negative ions in VHF SiH4/H-2 plasma
    Tsukasa Yamane; Shinya Nakano; Sachiko Nakao; Yoshiaki Takeuchi; Ryuta Ichiki; Hiroshi Muta; Kiichiro Uchino; Yoshinobu Kawai
    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS  53  (11)  116101-1-116101-4  2014年11月  [査読有り]
  3. Effect of Gas Flow Rate on the High-Rate, Localized Jet-Deposition of Silicon in SiH4/H-2 PE-CVD
    Satoshi Nishida; Hiroshi Muta; Shizuma Kuribayashi
    JOURNAL OF CHEMICAL ENGINEERING OF JAPAN  47  (6)  478-482  2014年6月  [査読有り]

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書籍等出版物

  1. プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例 , 牟田 浩司 , 第9章 超音速噴流を用いた高速・大面積均一な微結晶シリコン製膜プロセス , 第9章 超音速噴流を用いた高速・大面積均一な微結晶シリコン製膜プロセス , サイエンス&テクノロジー , 2018年9月

MISC

  1. Development of a 915 MHz ECR plasma source , Yoshinobu Kawai; Kiichiro Uchino; Hiroshi Muta; Tobias Röwf , Vacuum , 87 , 123 , 127 , 2013年1月1日
    概要:© 2012 Elsevier Ltd. We produced a 915 MHz ECR plasma with TM01 microwaves for different magnetic flux density distributions and examined the radial profiles of the ion saturation current as a function of pressure and power. It was found that the 915 MHz ECR plasma is uniform over 200 mm in diameter around the L-cutoff density and when a diverging magnetic field is used, a low electron temperature plasma is realized.
  2. Control of large area VHF plasma produced at high pressure , Tatsuyuki Nishimiya; Tsukasa Yamane; Yoshiaki Takeuchi; Yasuhiro Yamauchi; Hiromu Takatsuka; Hiroshi Muta; Kiichiro Uchino; Yoshinobu Kawai , Thin Solid Films , 519 , 6931 , 6934 , 2011年8月1日
    概要:The control of very high frequency (VHF) discharge plasma at high pressures was attempted by loading a variable capacitor to the end of the multi rod electrode with which VHF plasma (frequency 60 MHz) was produced. It was found that the discharge region is controlled with the variable capacitor and VHF plasma uniform over 1 m is produced at high pressures. © 2011 Elsevier B.V.
  3. Characteristics of SiH4/H2 VHF plasma produced by short gap discharge , Tatsuyuki Nishimiya; Tsukasa Yamane; Sachiko Nakao; Yoshiaki Takeuchi; Yasuhiro Yamauchi; Hiromu Takatsuka; Hiroshi Muta; Kiichiro Uchino; Yoshinobu Kawai , Surface and Coatings Technology , 205 , 2011年7月25日
    概要:A SiH4/H2 VHF plasma was produced with the multi rod electrode and the fundamental plasma parameters were examined as a function of pressure and power, where the frequency of the power source was 60MHz. It was found that the ion saturation current takes a peak at a certain power as well as pressure. These results were discussed from the point of view of electron trapping effect in VHF electric fields. In addition, anomalous reduction of the sheath potential was observed. © 2011 Elsevier B.V.

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受賞

  1. 1986年, 電気関係学会九州支部連合大会発表賞

共同研究・競争的資金等の研究課題

  1. 科学研究費補助金, 超音速噴流を用いたVHFプラズマによる高速大面積微結晶シリコン製膜法の開発
  2. 科学研究費補助金, 狭ギャップ高圧VHFプラズマを用いた微結晶シリコン薄膜作製
  3. 科学研究費補助金, 中性粒子風と渦の極性反転

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