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KINDAI UNIVERSITY

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教員・研究紹介

准教授 博士(工学)

村田 順二(むらた じゅんじ)

  • 所属 学科 / 機械工学科
  • 所属 専攻 / メカニックス系工学専攻

LED用窒化ガリウム(GaN)基板や高機能ガラス向けの精密研磨技術。開発した新規研磨技術により原子レベルで平坦な加工表面を達成できる

専門 精密加工学、表面工学、結晶工学
担当科目(学部) 基礎ゼミ1、機械工作法、物理学実験、機械加工実習1、精密加工学、卒業研究ゼミナール
担当科目(大学院) 先進加工学特論、メカニックス系学際講義Ⅳ
主な研究テーマ 光電解酸化を利用したSiC基板の高速研磨技術の開発
触媒反応を利用した砥粒フリー研磨技術の開発
光電気化学エッチングによるスライシング技術の開発
代表的な研究業績 (1) Polymer/CeO2-Fe3O4 multicomponent core-shell particles for high-efficiency magnetic-field-assisted polishing processes, International Journal of Machine Tools and Manufacture, Vol. 101, pp. 28- 34 (2016).
(2) Photo-electrochemical etching of free-standing GaN wafer surfaces grown by hydride vapor phase epitaxy, Electrochimica Acta,Vol. 171, pp. 89-95 (2015).
(3) ワイヤ擦過援用ウェットエッチングによるシリコンの高アスペクト比溝形成-シリコンインゴットの切断に向けた基礎的検討-,日本機械学会論文集,Vol. 80,No.815,pp.SMM0183(1-10)(2014).
researchmap http://researchmap.jp/read0151422
所属学協会 精密工学会、日本機械学会、砥粒加工学会、電気化学会
学外活動 精密工学会会誌編集委員・アフィリエイト委員、砥粒加工学会論文校閲委員
出身大学 大阪大学(学部)
出身大学院 大阪大学大学院(博士前期課程、博士後期課程)
論文名、取得大学、取得年月 触媒表面を基準面とする化学研磨法の開発とGaN表面の高精度平坦化への応用に関する研究、大阪大学、2010年3月
主な経歴 立命館大学助教(2010年)、近畿大学講師(2014年)
受賞歴 精密工学会技術奨励賞(2013年)、日本機械学会賞(論文)(2012年)、応用物理学会講演奨励賞(2008年)、JSPE prize best paper award(3rd Int. Conf. ASPEN)
学生へのアドバイス 自ら考え行動できる人材に- 何事に対しても自ら考え、計画を立て、それを実行する訓練を学生時代に行って下さい。
学生に薦めたい書物 ローマ人の物語、塩野七生(新潮文庫)


 
趣味・その他 写真、スポーツ観戦
先進加工学研究室
教員室 38号館6階
内線 5322
メールアドレス murata(at)mech.kindai.ac.jp
  • ※ 迷惑メールを避けるため(at)を使用しております。メールする場合は@に書き換えてください。
研究室URL http://www.mec.kindai.ac.jp/mech/lab/murata/index.html
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