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KINDAI UNIVERSITY

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教員・研究紹介

准教授 博士(理学)

瀬口 泰弘(せぐち やすひろ)

  • 所属 学科 / 応用化学科

気相堆積法によるナノロッド配列の形成

専門 薄膜工学
担当科目(学部) 基礎ゼミ1、基礎ゼミ2、基礎物理学および演習、化学数学、物理学実験、エネルギー工学、卒業研究ゼミナール、卒業研究
主な研究テーマ 物理/化学気相堆積法によるナノ構造形成
斜め蒸着法によるナノロッド配列の作製
アモルファス半導体薄膜の低温結晶化
代表的な研究業績 Fermi Liquid Effect on Tricritical Transitions in Thin TiN Films under the Spin Paramagnetic Limitation, Journal of the Physical Society of Japan, Vol. 69, pp. 1462-1471(2000).
researchmap http://researchmap.jp/read0034115
所属学協会 日本物理学会、応用物理学会、日本真空学会、日本金属学会
出身大学 京都大学(学部)、京都大学大学院(博士前期課程)
論文名、取得大学、取得年月 Reentrant Transitions in Superconducting Thin Films under Parallel Magnetic Field、大阪大学、1992年12月
主な経歴 近畿大学助手(1984年)、近畿大学講師(1993年)、ミネソタ大学客員研究員(1995~1996年)、近畿大学助教授(2000年)、近畿大学准教授(2007年)
学生へのアドバイス 視野を広くもつことを心がけて、いろんな種を自分の中にまいておきましょう。
学生に薦めたい書物 加藤周一 : 学ぶこと 思うこと、岩波書店
趣味・その他 芸術鑑賞、読書
材料物性研究室
教員室 38号館8階瀬口准教授室
内線 5225
メールアドレス seguchi(at)apch.kindai.ac.jp
  • ※ 迷惑メールを避けるため(at)を使用しております。メールする場合は@に書き換えてください。
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